专利名称：光掩模制造方法、检查方法及装置，描绘装置、显
示装置制造方法
专利类型：发明专利发明人：剑持大介
申请号：CN201910879805.0申请日：20160206公开号：CN110609436A公开日：20191224
摘要：本发明提供光掩模制造方法、检查方法及装置，描绘装置、显示装置制造方法，能够提高在被转印体上形成的图案的坐标精度。本发明的光掩模的制造方法具有：准备图案设计数据A的工序；准备表示基板的厚度分布的厚度分布数据T的工序；准备表示在曝光装置上保持光掩模时的主表面的形状的转印面形状数据C的工序；采用厚度分布数据T和转印面形状数据C来获得描绘差值数据F的工序；估算与描绘差值数据F对应的主表面上的多个点处的坐标偏差量来求出描绘用坐标偏差量数据G的工序；采用描绘用坐标偏差量数据G和图案设计数据A在光掩模坯体上进行描绘的描绘工序。
申请人：HOYA株式会社
地址：日本东京都
国籍：JP
代理机构：北京三友知识产权代理有限公司
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